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日本tecnostrap工業(yè)CVD工藝粉體捕集過濾器

日本tecnostrap工業(yè)CVD工藝粉體捕集過濾器
Technos 的粉體捕集過濾器專為液晶面板 CVD、半導體 CVD 等工藝中的粉塵處理而設計。

當粉體捕集器開始堵塞時，干式泵至捕集器之間的壓力會上升，表現(xiàn)為干泵背壓升高。

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  • 廠商性質：經銷商
  • 更新時間：2025-11-29
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日本tecnostrap工業(yè)CVD工藝粉體捕集過濾器
日本tecnostrap工業(yè)CVD工藝粉體捕集過濾器
Technos 的粉體捕集過濾器專為液晶面板 CVD、半導體 CVD 等工藝中的粉塵處理而設計。

當粉體捕集器開始堵塞時，干式泵至捕集器之間的壓力會上升，表現(xiàn)為干泵背壓升高。
通常以 背壓 ≈ 0.03 MPa 作為濾芯更換的參考值。
也可綜合以下指標進行判斷：
  • 干泵電流值上升
  • 已處理晶圓片數
  • 真空腔體累計運行時間

  • Technos 的粉體捕集過濾器專為液晶面板 CVD、半導體 CVD 等工藝中的粉塵處理而設計。

  • 當粉體捕集器開始堵塞時，干式泵至捕集器之間的壓力會上升，表現(xiàn)為干泵背壓升高。
    通常以 背壓 ≈ 0.03 MPa 作為濾芯更換的參考值。
    也可綜合以下指標進行判斷：
  • 干泵電流值上升
  • 已處理晶圓片數
  • 真空腔體累計運行時間

  • Technos 的粉體捕集過濾器專為液晶面板 CVD、半導體 CVD 等工藝中的粉塵處理而設計。

  • 當粉體捕集器開始堵塞時，干式泵至捕集器之間的壓力會上升，表現(xiàn)為干泵背壓升高。
    通常以 背壓 ≈ 0.03 MPa 作為濾芯更換的參考值。
    也可綜合以下指標進行判斷：
  • 干泵電流值上升
  • 已處理晶圓片數
  • 真空腔體累計運行時間


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